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裏氏硬度計的原理以及測量要求

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裏氏硬度計是一種測試器材,其原理是隨著單片技術的發展,1978年,瑞士人Leeb博士提出了一種全新的測硬方法,它的基本原理是具有一定質量的衝(chong) 擊體(ti) 在一定的試驗力作用下衝(chong) 擊試樣表麵,測量衝(chong) 擊體(ti) 距試樣表麵1mm處的衝(chong) 擊速度與(yu) 回跳速度,利用電磁原理,感應與(yu) 速度成正比的電壓。

 

裏氏硬度計對測量的要求:

 

1、試樣表麵的要求測試麵應有金屬光澤,不應有氧化皮及其它汙物,表麵粗糙度應符合如下要求: 衝(chong) 擊裝置類型試件表麵粗糙度(um) DDC型≤1.6G型≤6.3 C型≤0.4

2、試樣重量要求試樣必須有足夠的質量及剛性以保證在重建過程中不產(chan) 生位移或彈動,質量應符 合如下要求:衝(chong) 擊裝置類型試樣質量(Kg)穩定放置固定或夾持需耦合 DDC>5250.052 G>155150.55C>1.50.51.50.020.5

3、試樣厚度要求 試樣應有足夠的

4、試樣具有表麵硬化層,其硬化層深度應符合如下要求:衝(chong) 擊裝置類型表麵硬化層深度DDC型≥0.8 C型≥0.2

5、對於(yu) 凹、凸、圓柱麵及球麵試樣,其表麵曲率半徑應符合如下要求:衝(chong) 擊裝置類型表麵曲率半徑(mm)DDC型≥30 C型≥50 對於(yu) 表麵為(wei) 曲麵的試樣,應使用適當的支撐環,以保證衝(chong) 擊頭衝(chong) 擊瞬間位置偏差在0.5mm之內(nei) 。

6、試樣不應帶有磁性。

7、每個(ge) 測量點間距應大於(yu) 34mm,不可在同一點上重複測試,否則會(hui) 引起較大的誤差。同時會(hui) 減短傳(chuan) 感器的使用壽命。

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